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HS编码：3707909090

海关HS编码37079090.90 (已作废)
商品名称其他摄影用化学制剂
申报要素1.品名；2.用途；3.包装；4.成分；5.品牌；6.型号；
法定第一单位千克法定第二单位-
最惠国进口税率8普通进口税率35.00暂定进口税率-
消费税率-增值税率17.00
出口关税率-出口退税率13.0
海关监管条件无检验检疫类别无
商品描述包括摄影用未混合产品） 
英文名称
分类第六类 化学工业及其相关工业的产品（28-38章）
章节第三十七章：照相及电影用品
品目[3707]摄影用化学制剂（不包括上光漆、胶水、粘合剂及类似制剂）；摄影用未混合产品；定量包装或零售包装可立即使用的

个人行邮税号（无）

海关监管条件（无）

许可证或批文代码许可证或批文名称

HS法定检验检疫（无）

检验检疫代码名称

申报实例汇总

HS编码商品名称商品规格
37079090.90PS版冲版液,用于PS版,包装:塑料桶,成份:水(磷酸二氢钠,参照归类问答书2004-564号型号:ENERGYEL)
37079090.90硅片生产用显影液(MF320200L/Drum)
37079090.90照排片定影液,用于激光照排片,包装:塑料桶,水(乙酸,硫代硫酸氨,参照归类问答书2004-564号,PFIX)
37079090.90富士PS版保护胶GU-7(1LX15)
37079090.90印刷保护胶(PLATEGUM)
37079090.90照排片显影液,用于激光照排片,包装:塑料桶,成份:水(碳酸钾,对苯二酚,参照归类问答书2004-564号,G101C1X1)
37079090.90显影液(200升)OPD-10C用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液(5升)HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPE用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液(1000升)HPRD-429 POSITIVERESIST DEVEL用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液(1000升)用于半导体硅片表面的清洁;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液(200升)用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液(5升)POSITIVE RESISTDEVELOPER用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液(1000升)POSITIVE RESISTDEVELOPER用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液(5升)HPRD-429 POSITIVEDEVELOPER用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧化
37079090.90显影液(200升)POSITIVE RESISTDEVELOPER用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧化
37079090.90显影液1000升 POSITIVE RESISTDEVELOPER用于半导体硅片表面的清洗;;;
37079090.90显影液5升,HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPER用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液200升,HPRD-429 POSITIVERESIST DEVELOPER用于半导体硅片表面的清洗;塑料瓶/塑料桶;四甲基氢氧
37079090.90显影液5升POSITIVE RESISTDEVELOPER用于半导体硅片表面的清洗;;;
37079090.90显影液200升OPD-10C用于半导体硅片表面的清洗;;;;

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